深圳罗湖指纹模组等离子清洗机 专业推荐海江光电 等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理时会发出辉光，故称之为辉光放电处理。　 等离子清洗需要控制的真空度约为100pa，这种真空度在工厂实际生产中很轻易实现。这种装置的设备本钱不高，加上清洗过程不需要使用价格昂贵的有机溶剂，因此它的运行本钱要低于传统的清洗工艺。
由于不需要对清洗液进行运输、贮存、排放等处理措施，所以生产场地很轻易保持清洁卫生。
等离子清洗的最大技术特点是：它不分处理对象，可处理不同的基材，无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、据四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物）都可用等离子体很好地处理。

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